スパッタリング蒸着装置

スパッタリング蒸着では、イオン化したガスを蒸着源（ターゲット）に照射して、はじき出された原子・分子を別の場所においた基板上に堆積させる。

本研究室では、カーボンナノチューブ、カーボンナノコイル合成のための触媒やバッファー層の作製、TEM観察用基板導電コートなどに用いている。